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SGN鋰電池納米氧化鎂研磨分散機能夠實現自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
納米氧化鎂是一種新型納米微粒材料,外觀白色粉末,純度高、比表面積大,由極細的晶粒組成,無毒、無味、分散性好,相對密度約3.58(25℃)。熔點2852℃,沸點3600℃.難溶于水,不溶于醇,溶于酸或銨鹽溶液中。納米級氧化鎂具有明顯的小尺寸效應、表面效應、量子尺寸效應和宏觀隧道效應,經改性處理,無團聚現象,在光學、催化、磁性、力學、化工等方面具有許多特異功能及重要應用價值,前景非常廣闊,是21世紀重要新材料。
(價格電議:葛 公司有樣機可供客戶實驗!) |
技術指標:
項目 | 指標 |
型號 | DC-MgO-002 |
氧化鎂% | 99.9 |
粒徑 | 30nm |
鈣 ppm < | 3 |
氯化物 ppm < | 3 |
鐵ppm < | 3 |
灼燒失量%,< | 0.3 |
比表面m2/g | 60-100 |
在鋰電池中的應用特性
1. 在鋰電池中的應用
在鋰離子蓄電池正極材料中添加適量的納米氧化鎂,所得正極材料擁有大于140mAh/g的可逆放電容量,且循環性能良好。在正極材料中使用可以提高導電性,建議添加量 0.3-0.5%
2. 鋅鎳蓄電池中的應用
通過物理混合的方法在鋅負極活性物質中摻入氧化鎂,可減少充放電極化、減少循環后期的內阻、提高負板活性物質利用率、延長電池循環壽命,適宜添加量為1.0%wt的氧化鎂,且添加量不宜超過2.0%。
3. 高氯化鋅電池中的應用
在正極活性物質中添加少量的氧化鎂可以調節電液酸度,減緩自放電,抑制電池氣脹,提高貯存性能,且對提高放電容量及促進漿層糊化有*的效果。建議添加量 0.5-1%,并調節合適的PH值。
4. 鎘鎳蓄電池中的應用
在鎘電極中添加適量的氧化鎂、氧化鋅和氧化鐵可提高活性物質利用率;添加氧化鎂,三氧化二銦和氧化鋅,可提高密封鎘鎳蓄電池的荷電保持能力
是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
GMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
設備其它參數:
設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%
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