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產(chǎn)品型號(hào): GMD2000
所屬分類:高剪切膠體磨
更新時(shí)間:2024-12-16
簡(jiǎn)要描述:鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨,鹽酸頭孢噻呋改進(jìn)型膠體磨,是,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及分散的效果。
鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨,鹽酸頭孢噻呋改進(jìn)型膠體磨,是,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及分散的效果。
鹽酸頭孢噻呋膠體磨
設(shè)備選型上注意幾點(diǎn):
選定的膠體磨作為生產(chǎn)頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關(guān)鍵設(shè)備,由于價(jià)格較貴,需要在廠家現(xiàn)場(chǎng)試驗(yàn),考察研磨效果。為做好此項(xiàng)工作,制定方案如下:
試驗(yàn)?zāi)康模簷z驗(yàn)?zāi)z體磨的研磨效果以及效率
試驗(yàn)器材:試驗(yàn)用膠體磨、顯微鏡、載玻片、涂針、留樣瓶、封口鉗、8號(hào)針頭、注射器,1ml移液管,溫度計(jì)。
試驗(yàn)步驟:
1、現(xiàn)場(chǎng)確認(rèn)設(shè)備的型號(hào)、性能、以及清洗方式。
2、加入物料,設(shè)定3分鐘的研磨時(shí)間(假定4升物料研磨5分鐘合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分鐘),取樣檢測(cè)粒度,記錄粒度分布數(shù)量。用移液管測(cè)量流速,用8號(hào)針頭測(cè)量通針性。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的參數(shù)。
3、如果3分鐘沒(méi)有達(dá)到效果,則繼續(xù)進(jìn)行5分鐘試驗(yàn)。以此類推,繼續(xù)做好數(shù)據(jù)檢測(cè)。
4、在研磨性能試驗(yàn)完成以后,利用現(xiàn)有物料對(duì)膠體磨進(jìn)行連續(xù)開機(jī)試驗(yàn),初步定為30分鐘,試驗(yàn)?zāi)z體磨的產(chǎn)熱降溫性能。測(cè)量機(jī)體軸承處溫度、測(cè)量研磨腔出來(lái)的料溫溫度,顯微鏡檢查料液中是否有金屬碎屑。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的數(shù)據(jù)。
鹽酸頭孢噻呋膠體磨是
化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
鹽酸頭孢噻呋膠體磨 跟多額信息請(qǐng)
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。