納米金屬氧化物研磨分散機
二、納米材料
納米材料指的是納米結構按一定方式堆積或一定基體中分散形成的宏觀材料。納米結構為*少一維尺寸在1~100nm 區域的結構,它包括納米粒子、納米纖維、納米薄膜、納米塊狀和納米晶等。納米粒子又稱超微粒子,統指1~ 100nm 的細微顆粒(結晶的或非結晶的)。納米粒子既不同于微觀原子、分子團簇,又不同于宏觀體相材料,是一種介于宏觀固體和分子間的亞穩中間態物質。當粒子尺寸進入納米數量級(1~100nm)時,由于納米粒子的表面原子與體相總原子數之比隨粒徑尺寸的減少而急劇增大,使其顯示出強烈的體積效應、量子效應、表面效應和宏觀量子隧道效應。
三、納米材料分類
包括納米塊狀材料和納米復合材料。從物質的類別來分,可分為金屬納米材料、無機氧化物納米材料、無機半導體納米材料和有機小分子和聚合物納米材料。
四、無機納米材料的分散難點
納米產品在工業上應用是一個難題,特別是將功能性納米材料粉末分散在中高粘度的介質中,如果用普通高剪切分散設備去分散,需要超長時間的分散,而長時間的分散會導致發熱、結皮、老化,后分散的均勻度還不能令人滿意。SGN工程技術人員針對這種工況,創新設計,充分根據流體特性,將納米材料得到均質分散。
上海思峻專注于納米無機材料的分散,混合,均質,研磨等,通過研制出集成式的乳化分散(可真空)一體分散機,針對各類納米無機材料推出的各類工作刀頭能夠滿足很多特性的材料乳化與分散,溫度、真空度、時間、乳化分散力度都是可控的,真正實現了智能化操控。
五、分散過程
一般來說,納米顆粒在溶劑中的分散過程一般包括三個階段,即納米顆粒表面的潤 濕、機械分散、分散穩定。納米顆粒與溶劑之間的潤濕過程主要取決于納米顆粒和溶劑 本身的性質,良好的潤濕性是實現納米粒子在溶劑中穩定分散的前提條件。要實現納米 粒子的穩定分散,除了要求兩者之間有良好的潤濕性之外,機械分散也是一個重要因素。機械分散在納米粒子分散過程中除了將團聚體解聚之外,更重要的是它通過納米粒子結 構的變化產生新的界面,促進潤濕、吸附等表面反應的進行。
六、上海思峻納米分散機的優勢
傳統的高速分散機(轉速2930轉)也即是高速攪拌機,是將攪拌機插入罐中對物料進行高速攪拌,由于這只是一個局部的攪拌,剪切中作用力弱、對物料的剪切頻率少,因此常會抱團、分層、分散不均,影響產品品質及性能,而SGN高剪切納米分散機是將物料進行一個全局的混合分散剪切,物料從儲料罐中進入到工作腔體進行360度高頻次的剪切、分散、撞擊、摩擦,因此物料更細、分散穩定性更好。當然還有設備加工精度、物料粘稠度、物料原始粒徑、溫度、是否有添加劑等眾多影響因素。
在設備的角度來看
1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2 分散頭的剪切速率(越大,分散越好)
3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,越細齒分散越好)
4 物料在分散腔體的停留時間,分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,分散越好)
5 循環次數(越多,分散越好,到設備的期限,就不能再好)
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七、GMD2000納米研磨分散機
納米分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
納米金屬氧化物研磨分散機